:

Научный форум «Новые материалы и перспективные технологии»

13.11.2019 16:07
Лаборатория высокотемпературных полупроводниковых соединений А3В5 принимала участие в Пятом междисциплинарном научном форуме с международным участием «Новые материалы и перспективные технологии» с двумя стендовыми докладами в секции Перспективные процессы в металлургии:
Жарикова Елена Викторовна «Исследование влияния условий выращивания на структуру крупногабаритных монокристаллов антимонида индия, полученных методом Чохральского» и
Югов Андрей Александрович «Двойникование в монокристаллах арсенида галлия при выращивании методом Чохральского»
Форум проходил с 30 октября по 1 ноября 2019г на территории РАН

Возврат к списку